Élvezd ki a K-Beauty buborékos bőrtisztító technológiájának bőrödre gyakorolt kedvező hatásait a PureDerm legújabb Deep Purifying maszkjával. A szabadalmaztatott koreai technológia az oxigenizációs és buborék képzés fiziológiai hatásait alkalmazza a pórusokban mélyen megülő szennyeződések fellazítására, valamint a makacs sminkmaradványok eltávolítására. A levegő oxigénjével rakcióba lépő maszk a bőrön pezsgő habbá alakul, amely mikromasszázsával nem csak élénkíti a bőrfunkciókat, hanem finom pezsgésével eltávolítja a nem kívánatos szennyeződéseket is a bőrről. Mindezt lágyan, kimagasló hatékonyság mellett a bőr felszínánek extra oxigénnel történő ellátásával.
Hialuronsav a megfelelő nedvességpótláshoz
Legújabb maszkunk egyik fő összetevője a hialuronsav, mely a bőrben természetes formában is megtalálható mukopoliszaharid. A bőr vízmegkötő képességéért felel, ugyanakkor hidratált környeztetet biztosít, pl. a bőr feszességéért felelős kollagénrostok számára. Pótlása a bőr hidratációjának megőrzése szempontjából kulcsfontosságú. Alkalmazásával a bőr nedvességtartalma és rugalmassága megőrízhető.
Kollagén a bőr rugalmasságának a megőrzéséhez
Új maszkunk a hialuronsav mellett hozzádaott kollagént is tartalmaz. A bőr feszességéért felelős rugalmas rostokat támogató összetevő esszenciális az öregedő bőröknél, ahol ennek mennyisége a kor előrehaladtával folyamatosan csökken. Hialuronsavval kombinálva ideális a bőr rugalmasságának és feszességének a megőrzéséhez. Túnusjavító és lifting hatású is egyben.
Bőrnyugtató hatású Asian Centella (Tigrisfű)
Új buborék maszkunk a bőr hidratálása és feszesítése mellett a bőrnyugtató hatásáról ismert Asian Centella összetevőt is tartalmaz. Az ázsiai gázló, vagy tigrisfűként is ismert összetevő hatékonyan segít a sérült bőrök regenerációjában, az esetleges bőrirritációk mérséklésében. Másodlagos hatásával támogatja a bőrrugalmasító folyamatokat is.
Miért válaszd a PureDerm Deep Purifying Cloud Bubble maszkját:
Figyelmeztetés: Kizárólag külső használatra. Gyermekektől elzárva tartandó. Szembe ne kerüljön. Csak ép bőrfelületen alkalmazza. Ha alkalmazás közben irritációt, egyéb rendellenességet tapasztal, hagyja abba a használatot.
Tárolás: Fénytől védve, hűvös, száraz helyen. Felhasználható: A csomagoláson jelzett időpontig (nap/hó/év). Felbontás után csak egyszer használható.
Ingredients/Összetevők: lásd a csomagoláson.
Tasakot használat előtt nyomkodd át. Helyezd fel a maszkot a tiszta, száraz bőrre, hagyd hatni 10–15 percig (amíg buborékok képződnek), majd távolítsd el és öblítse le langyos vízzel. A maszk után használj a bőrtípusodnak megfelelő szérumot, vagy krémet.
Alveola Kft.
1143 Budepest Gizella út 28/a
Tel: +36 1251 2270
information [kukac]alveola.hu